클린룸 내부는 미세 파티클 하나가 수율에 영향을 주는 공간입니다. (주)온텍은 클린룸 환경에 맞는 배관 자재 선정, 오염 관리, 정밀 용접·검사 절차를 갖추고 반도체 FAB 클린룸 배관공사를 수행합니다.
반도체 클린룸은 초순수(UPW), 특수가스, 화학약품(케미컬), 공정용수 등 여러 계통의 배관이 좁은 공간 안에 밀집되어 지나갑니다. 일반 건축 배관과 달리 클린룸 배관은 시공 중 발생하는 미세 이물질, 산화 스케일, 용접 흄이 그대로 공정 불량이나 웨이퍼 오염으로 이어질 수 있어 훨씬 엄격한 관리 기준이 요구됩니다.
또한 클린룸은 가동 중인 라인 옆에서 증설·보수 공사가 진행되는 경우가 많아, 기존 설비를 오염시키지 않으면서 정해진 공정(Shutdown) 시간 안에 작업을 마쳐야 하는 일정 관리 능력도 함께 필요합니다.
배관 절단·용접 시 발생하는 스케일과 이물질을 관리하며, 클린룸 등급에 맞는 반입 자재 및 작업 절차를 적용합니다.
스테인리스 정밀 배관(오비탈 용접 등)을 활용한 고순도 배관 접합으로 누설·오염 리스크를 최소화합니다.
UPW, 특수가스, 화학배관, 공조·유틸리티 배관 등 여러 계통을 함께 계획하여 간섭 없이 시공합니다.
가동 중인 FAB 인근 공사 경험을 바탕으로 정해진 셧다운 시간 내 안전하게 작업을 완료합니다.
클린룸 등급, 기존 배관 계통, 반입 동선을 확인하고 시공 도면을 검토합니다.
클린룸 규격에 맞는 배관 자재를 선정하고, 오염 방지 절차와 작업 일정을 계획합니다.
절단·세정·용접·설치 전 과정에서 오염 관리 기준을 적용해 시공합니다.
누설·방사선·초음파 검사 등을 통해 시공 품질을 확인한 뒤 인계합니다.